Адрес e-mail:

НОЦ "Нанотехнологии". PECVD PlasmaLab System 100

 



Установка PlasmaLab System 100 предназначена для проведения PECVD процессов: осаждение межслоевых диэлектриков, пассивация поверхности пластин, создание маски для ионной имплантации, нанесение аморфного и поликремния, создание ненапряженных мембран, создание оптических волноводов.

 

 

 



 

Технические характеристики:

- типичное рабочее давление – 300  1200 мТорр

- конформное осаждение

- низкая температура подложки в ходе осаждения (200 – 300оС)

- точный контроль стехиометрии пленки

- используемые газы: CF4, N2, N2O, NH3, SiH4.

- подогреваемый нижний электрод (до 600оС)

 

 

Если вы заметили в тексте ошибку, выделите её и нажмите Ctrl+Enter.

© 2001-2020 Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)

Противодействие коррупции | Сведения о доходах

Политика обработки персональных данных МФТИ

Техподдержка сайта | API

Использование новостных материалов сайта возможно только при наличии активной ссылки на https://mipt.ru

МФТИ в социальных сетях