21–23 сентября в МФТИ состоится Международный семинар по атомно-слоевому осаждению
(«Atomic layer deposition: Russia, 2015»).
(«Atomic layer deposition: Russia, 2015»).
Научные основы метода атомно-слоевого осаждения (АСО) были разработаны в 1960-х годах в Советском Союзе. Метод позволяет получать сверхтонкие изолирующие и проводящие покрытия с очень высокой степенью однородности и конформности. Сегодня АСО используется для создания функциональных слоев при производстве интегральных схем, сенсоров, гетероструктур, микро- и наномеханических, оптических и оптоэлектронных систем, солнечных батарей, антикоррозионных покрытий и медицинских имплантантов.
Технология атомно-слоевого осаждения активно разрабатывается в России. В Московском физико-техническом институте этой темой занимается группа кафедры общей химии под руководством Андрея Маркеева и Лаборатория функциональных материалов и структур для наноэлектроники, руководителем которой является Андрей Зенкевич.
Междисциплинарный характер исследований в области АСО обуславливает необходимость постоянного обмена опытом между ведущими специалистами в области физического материаловедения, металлорганической и неорганической химии, представителями промышленности. Задачами Международного семинара «Atomic layer deposition: Russia, 2015» являются консолидация российского сообщества АСО, установление новых профессиональных контактов, а также дальнейшее развитие метода АСО и его промышленных применений.
Официальный сайт семинара: http://ald-conf.ru/
