Адрес e-mail:

Технологии наноструктур. Осенний семестр 2017 года.

7 сентября, 10.45

Классификация наноструктур и их фрагментов по конфигурации и составу → принципы выбора технологии. "Мокрые" и "сухие", физические и химические технологии наноразмерных объектов и устройств на их основе. Презентация лекции. 

 

14 сентября, 10.45

Нанесение наноразмерных объектов на подложки в вакуумных устройствах и из газовой фазы: методы, основанные на химических, фото- и плазмохимических процессах. Требования к реагентам. Типы и стадийность процессов. Регулирующие факторы. Презентация лекции.

 

21 сентября, 10.45

Атомарно-гладкие подложки. Эпитаксия. Предобработка подложек. Основные механизмы нуклеации и роста. Поверхностная диффузия. In situ мониторинг роста тонких пленок спектроскопическими методами. Презентация лекции.

 

28 сентября, 10.45

Физические методы нанесения тонких пленок. Термическое, магнетронное и электронно-лучевое осаждение тонких слоев. (В.В. Больгинов) Презентация лекции.

 

5 октября, 10.45

Электроосаждение и химическое осаждение металлов, сплавов, сложных соединений. Темплатируемое осаждение упорядоченных ансамблей наноразмерных объектов («наногальваника») и слоистых наноструктур. Кулонометрический мониторинг при электроосаждении. Презентация лекции. 

 

12 октября, 10.45

Процессы анодного растворения и окисления металлов и кремния. Электрополировка. Анодирование металлов для создания сплошных диэлектрических пленок и оксидных слоев с упорядоченными порами. Изготовление нанометровых зазоров. Заострение зондов. Презентация лекция.

 

19 октября, 10.45

Оптический контроль размеров коллоидных частиц, получение металлических и полупроводниковых наночастиц; частицы типа «ядро-оболочка» и другие экзотические коллоиды. Презентация лекции.

 

26 октября, 10.45

Формирование наноразмерных объектов в конфигурации зондовых микроскопов: модифицированные зонды, локальное модифицирование поверхности в газовой фазе и растворах. Квазилитография. Презентация лекции.

 

2 ноября, 10.45

Оптическая литография. Фоторезисты. Выборы доз экспонирования. Прямые и обратные (позитивные и негативные) процессы. “Взрывной” (lift-off) процесс. Электронная литография. Электронные резисты. Двуслойные маски и “теневое” напыление структур. Ионное и реактивно-ионное (RIE) травление слоев. (И.Н.Храпач) 

 

9 ноября, 10.45

Химические и физико-химические аспекты литографии. Природа процессов проявления и травления резистов, основные типы полимерных резистов. Жидкости для иммерсионной литографии на основе коллоидных частиц. 

 

16 ноября, 10.45

Процессы, приводящие к деградации наноструктур в процессе их изготовления и функционирования. Проблемы технологической совместимости материалов. Принципиальные схемы многоэтапных технологий наноструктур.

 

23 ноября, 10.45

Сверхпроводящие и гибридные наноструктуры (обзорная лекция, В.В.Рязанов). 

 

Подготовка и защита нанотехнологических проектов (защиты по средам, 29 ноября и 6 декабря вечером - с участием 2 курса)

 

Если вы заметили в тексте ошибку, выделите её и нажмите Ctrl+Enter.

© 2001-2020 Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)

Противодействие коррупции | Сведения о доходах

Политика обработки персональных данных МФТИ

Техподдержка сайта | API

Использование новостных материалов сайта возможно только при наличии активной ссылки на https://mipt.ru

МФТИ в социальных сетях