Адрес e-mail:

Технологии наноструктур. Осенний семестр 2016 года.

Календарь

8 сентября, 10.45, 516

Классификация наноструктур и их фрагментов по конфигурации и составу → принципы выбора технологии. "Мокрые" и "сухие", физические и химические технологии наноразмерных объектов и устройств на их основе. Презентация лекции.


15 сентября, 10.45, 516

Нанесение наноразмерных объектов на подложки в вакуумных устройствах и из газовой фазы: методы, основанные на химических, фото- и плазмохимических процессах. Требования к реагентам. Типы и стадийность процессов. Регулирующие факторы. Презентация лекции.


22 сентября, 17.00, читальный зал

Физические методы нанесения тонких пленок. Термическое, магнетронное и электронно-лучевое осаждение тонких слоев. (В.В. Больгинов)

Презентация лекции.


29 сентября, 10.45, 516

Атомарно-гладкие подложки. Эпитаксия. Предобработка подложек. Основные механизмы нуклеации и роста. Поверхностная диффузия. In situ мониторинг роста тонких пленок спектроскопическими методами. Презентация лекции.


6 октября, 17.00, читальный зал

Сверхпроводящие и гибридные наноструктуры (обзорная лекция, В.В.Рязанов). Презентация лекции.


13 октября. 10.45, 516

Электроосаждение и химическое осаждение металлов, сплавов, сложных соединений. Темплатируемое осаждение упорядоченных ансамблей наноразмерных объектов («наногальваника») и слоистых наноструктур. Кулонометрический мониторинг при электроосаждении. Презентация лекции.


20 октября, 10.45, 516

Процессы анодного растворения и окисления металлов и кремния. Электрополировка. Анодирование металлов для создания сплошных диэлектрических пленок и оксидных слоев с упорядоченными порами. Изготовление нанометровых зазоров. Заострение зондов. Презентация лекции.


27 октября, 10.45, 516

Оптический контроль размеров коллоидных частиц, получение металлических и полупроводниковых наночастиц; частицы типа «ядро-оболочка» и другие экзотические коллоиды. Презентация лекции.

Индивидуальные задачи - часть 1.


3 ноября, 10.45, 516

Формирование наноразмерных объектов в конфигурации зондовых микроскопов: модифицированные зонды, локальное модифицирование поверхности в газовой фазе и растворах. Квазилитография. Презентация лекции.


10 ноября, 17.00, читальный зал

Оптическая литография. Фоторезисты. Выборы доз экспонирования. Прямые и обратные (позитивные и негативные) процессы. “Взрывной” (lift-off) процесс. Электронная литография. Электронные резисты. Двуслойные маски и “теневое” напыление структур. Ионное и реактивно-ионное (RIE) травление слоев. (Т.Е.Голикова) Презентация лекции.


17 ноября, 10.45, 516

Химические и физико-химические аспекты литографии. Природа процессов проявления и травления резистов, основные типы полимерных резистов. Жидкости для иммерсионной литографии на основе коллоидных частиц. Презентация лекции.


24 ноября, 10.45, 516

Процессы, приводящие к деградации наноструктур в процессе их изготовления и функционирования. Проблемы технологической совместимости материалов. Принципиальные схемы многоэтапных технологий наноструктур. Презентация лекции.


Подготовка и защита (8 и 15 декабря) нанотехнологических проектов.

Индивидуальные задачи - часть 1.


Если вы заметили в тексте ошибку, выделите её и нажмите Ctrl+Enter.

© 2001-2020 Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)

Противодействие коррупции | Сведения о доходах

Политика обработки персональных данных МФТИ

Техподдержка сайта | API

Использование новостных материалов сайта возможно только при наличии активной ссылки на https://mipt.ru

МФТИ в социальных сетях