Одним из главных принципов уникальной «системы Физтеха», заложенной в основу образования в МФТИ, является тщательный отбор одаренных и склонных к творческой работе представителей молодежи. Абитуриентами Физтеха становятся самые талантливые и высокообразованные выпускники школ всей России и десятков стран мира.

Студенческая жизнь в МФТИ насыщенна и разнообразна. Студенты активно совмещают учебную деятельность с занятиями спортом, участием в культурно-массовых мероприятиях, а также их организации. Администрация института всячески поддерживает инициативу и заботится о благополучии студентов. Так, ведется непрерывная работа по расширению студенческого городка и улучшению быта студентов.

Адрес e-mail:

Технологии наноструктур


Технологии наноструктур

Преподаватели: Цирлина Галина Александровна, Рязанов Валерий Владимирович.
Отчетность: экзамен.

Программа:
  • Классификация наноструктур и их фрагментов по конфигурации и составу → принципы выбора технологии. "Мокрые" и "сухие, физические и химические технологии наноразмерных объектов и устройств на их основе.
  • Электроосаждение и химическое осаждение металлов, сплавов, сложных соединений. Темплатируемое осаждение упорядоченных ансамблей наноразмерных объектов («наногальваника») и слоистых наноструктур. Кулонометрический мониторинг при электроосаждении.
  • Устройства наноэлектроники (обзорная лекция).
  • Процессы анодного растворения и окисления металлов и кремния. Электрополировка. Анодирование металлов для создания сплошных диэлектрических пленок и оксидных слоев с упорядоченными порами. Изготовление нанометровых зазоров. Заострение зондов.
  • Оптический контроль размеров коллоидных частиц, получение металлических и полупроводниковых наночастиц; частицы типа «ядро-оболочка» и другие экзотические коллоиды.
  • Нанесение наноразмерных объектов на подложки в вакуумных устройствах и из газовой фазы (методы, основанные на химических, фото- и плазмохимических процессах). Требования к реагентам. Типы и стадийность процессов. Регулирующие факторы.
  • Атомарно-гладкие подложки. Эпитаксия. Предобработка подложек. Основные механизмы нуклеации и роста. Поверхностная диффузия. In situ мониторинг роста тонких пленок спектроскопическими методами.
  • Физические методы нанесения тонких пленок. Термическое, магнетронное и электронно-лучевое осаждение тонких слоев.
  • Оптическая литография. Фоторезисты. Выборы доз экспонирования. Прямые и обратные (позитивные и негативные) процессы. “Взрывной” (lift-off) процесс.
  • Электронная литография. Электронные резисты. Двуслойные маски и “теневое” напыление структур. Ионное и реактивно-ионное (RIE) травление слоев.
  • Химические и физико-химические аспекты литографии. Природа процессов проявления и травления резистов, основные типы полимерных резистов. Жидкости для иммерсионной литографии на основе коллоидных частиц.
  • Формирование наноразмерных объектов в конфигурации зондовых микроскопов: модифицированные зонды, локальное модифицирование поверхности в газовой фазе и растворах. Квазилитография.
  • Процессы, приводящие к деградации наноструктур в процессе их изготовления и функционирования. Проблемы технологической совместимости материалов. Принципиальные схемы многоэтапных технологий наноструктур.
  • Подготовка и защита нанотехнологических проектов.
Если вы заметили в тексте ошибку, выделите её и нажмите Ctrl+Enter.

© 2001-2016 Московский физико-технический институт
(государственный университет)

Техподдержка сайта

МФТИ в социальных сетях

soc-vk soc-fb soc-tw soc-li soc-li
Яндекс.Метрика