• О Физтехе
  

  МФТИ является одним из ведущих технических вузов России. Институт по праву занимает лидирующее место по качественному приему абитуриентов и квалифицированной подготовке выпускников. Студенты и выпускники МФТИ являются представителями узкого круга лиц, которые, благодаря окружающим их возможностям междисциплинарного научного образования, могут в полной мере реализовать свой потенциал.

  • Общая информация
  • Руководство
  • Физтех-школы
  • Подразделения
  • Публикации в СМИ
  • МФТИ в рейтингах
  • История Физтеха
  • Сведения об образовательной организации
  • Партнеры
  • Абитуриенту
• Образование
  

  Уникальная ­­«Система обучения Физтеха» является одним из лучших подходов к образованию, что доказывает ее существование почти в неизменном виде уже более 60 лет. Получение фундаментального образования в области математики и физики, предварительное знакомство с избранной специализацией наряду с приобретением навыков самостоятельной работы уже на 4м курсе обеспечивают каждого студента объемом знаний и опыта полноценного ученого. Таким образом, к окончанию обучения студенты уже имеют значительные достижения в избранном ими направлении деятельности.

  • Институтские кафедры и департаменты
  • Преподаватели
  • Базовые и факультетские кафедры
  • Абитуриентам и школьникам
  • Иностранным гражданам
  • Повышение квалификации
  • Диссертационные советы
  • Совместные программы
  • Сведения об образовательной организации
  • Аспирантура
• Наука и инновации
  

  Исследования в МФТИ охватывают широкий круг областей теоретической и экспериментальной физики, энергетики и биомедицины, химии и прикладной математики. Поддержка ряда государственных и частных научных и инвестиционных фондов позволяет нашим ученым каждый день вести разработки на переднем крае науки, чтобы сделать мир более совершенным, удобным и безопасным.

  • Лаборатории и научные центры
  • Центр коллективного пользования
  • Отдел приоритетных исследований и разработок
  • Визит-профессора МФТИ
  • Проект 5—100
  • Гранты и конкурсы
  • Программы развития
  • Отдел по интеллектуальной собственности
  • Научно-технический совет
  • Конференции
  • Научные журналы МФТИ
  • База научных статей
  • Всероссийский конкурс научно-популярной журналистики «Импульс»
• Новости науки

ЦКП МФТИ. Атомно-слоевое осаждение

Установка атомно-слоевого осаждения  Picosun R200 Advanced (2014 г.)

Основные характеристики установки атомно-слоевого осаждения с модулем плазменной обработки (PE-ALD): - возможность проводить операцию осаждения тонких плёнок (в т. ч. сегнетоэлектрических) методом атомно-слоевого осаждения с повторяемостью по толщине не хуже 1 нм конформно на поверхностях с любым рельефом; - возможность работы с подложками диаметром до 200 мм; - наличие источников для работы в жидкостными прекурсорами с высоким давлением паров (TMA, DEZ, TiCl4  и т.д); - наличие источников для жидкостных и твердотельных прекурсоров с низким давлением паров (TEMAHf, CHORuS) с нагревом до 200°С.